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光學(xué)光刻機(jī)主要有（）等幾種。非光學(xué)光刻機(jī)主要有（）。

答案：接觸式、接近式、投影式和分步重復(fù)光刻機(jī)；電子束光刻機(jī)和X射線光刻機(jī)

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填空題
光刻工藝的主要工序有：（）組成。
答案：涂膠、前烘、對(duì)位、曝光、顯影、堅(jiān)膜、介質(zhì)刻蝕、去膠
填空題
快速熱處理設(shè)備（RTP）的主要熱交換機(jī)制是（），常用熱源是（）。RTP的主要優(yōu)點(diǎn)是（）。
答案：熱輻射；鎢-鹵燈；時(shí)間短可減少雜質(zhì)的再分布、燈光加熱無污染

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