集成電路技術綜合練習章節(jié)練習(2018.02.26)

來源：考試資料網(wǎng)
參考答案：

注氧隔離技術、鍵合減薄技術、智能剝離技術。

參考答案：

圖元：工藝能夠制造的有源元件和無源元件的版圖作為工藝圖形單元

參考答案：

布線變復雜、信號線與地線間的寄生電容增加

參考答案：

隨機失配是指由于元器件尺寸、摻雜濃度、氧化層厚度等影響元器件特性的參量發(fā)生微觀波動所引起的失配

參考答案：

工序目的：去除表面因加工應力而形成的損傷層及污染

參考答案：

表面缺陷、結構缺陷、氧化層中的電荷

參考答案：

雙極工藝為基礎的BiCMOS工藝用的多
影響B(tài)iCMOS器件性能的主要部分是雙極部分。

參考答案：將多個裸片形式的集成電路芯片和其他片式元器件組裝在一塊多層互連基板上，然后封裝在一個外殼內，組成一個具有設計復雜功能的電...
參考答案：

劃片、分類、管芯鍵合、引線壓焊、密封、管殼焊接、塑封、測試