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集成電路制造工藝員多項(xiàng)選擇題每日一練(2019.08.13)

來(lái)源：考試資料網(wǎng)

1 下列物質(zhì)中是結(jié)晶形態(tài)二氧化硅的有（）。

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2 哪種方法可以增加缺陷的積累率而降低臨界注入量：（）。

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3 在半導(dǎo)體制造中，熔斷絲可以應(yīng)用在（）。

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4 涂膠之前，要保證晶片的質(zhì)量以及涂膠工序的順利進(jìn)行，下列操作正確的是（）。

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5 下列有關(guān)曝光系統(tǒng)的說(shuō)法正確的是（）。

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