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集成電路制造工藝員多項選擇題每日一練(2019.08.13)

來源：考試資料網

1 在半導體工藝中，與氮化硅比較，二氧化硅更適合應用在（）。

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2 濺射的方法非常多其中包括（）。

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3 一般來說，濺射鍍膜的過程包括（）這幾步。

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4 離子注入的主要氣體源中，易燃、易爆的有（）。

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5 電氣測量技術的應用所以能在現代各種測量技術中占有重要的地位，是因為它具有很多優(yōu)點，主要有：（）。

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