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每日一練
章節(jié)練習
集成電路制造工藝員多項選擇題每日一練(2019.04.23)
來源：考試資料網
1
有關光刻膠的顯影下列說法錯誤的是（）。
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2
超大規(guī)模集成電路需要光刻工藝具備的要求有（）。
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3
凈化室將硅片制造設備與外部環(huán)境隔離，免受諸如（）的沾污。
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4
按曝光的光源分類，曝光可以分為（）。
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5
通常情況下，我們改變工藝條件使刻蝕進行中（）的刻蝕速率盡量低。
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