集成電路制造工藝員單項(xiàng)選擇題每日一練(2019.01.25)

來源：考試資料網(wǎng)

1 在集成電路工藝中，光復(fù)制圖形和材料刻蝕相結(jié)合的工藝技術(shù)是（）。

2 當(dāng)二氧化硅膜很薄時(shí)，膜厚與時(shí)間（）。

3 在半導(dǎo)體器件制造中，對清洗用水的純度有比較高的要求，要用經(jīng)過純化的（）作為清潔用水。

4 企業(yè)的戰(zhàn)略一般由四個(gè)要素組成，即經(jīng)營范圍、資源配置、競爭優(yōu)勢以及協(xié)同合作，其中協(xié)同合作是指企業(yè)通過共同的努力達(dá)到（）。

5 （）是測量在刻蝕過程中物質(zhì)被移除的速率有多快的一種參數(shù)。