A.柵比（R）＝（12～14）∶1 B.半徑（fo）＝180cm C.柵密度（N）＞40L/cm D.半徑（fo）＝150cm E.柵比（R）＝10：1
A.TR B.FA C.NEX D.ESP E.FA
A.激光發(fā)生器、調(diào)節(jié)器、發(fā)散透鏡、多角光鏡、聚集透鏡、高精度電機 B.滾筒、高精度電機、調(diào)節(jié)器、發(fā)散透鏡、多角光鏡、聚集透鏡 C.控制板、激光發(fā)生器、調(diào)節(jié)器、多角光鏡、聚焦透鏡 D.干燥系統(tǒng)、聚集透鏡、高精度電機、激光發(fā)生器、滾筒 E.調(diào)節(jié)器、發(fā)散透鏡、控制板、聚集透鏡、鋁基板
A.超導(dǎo)磁體主要用于高場及超高場MRI設(shè)備 B.超導(dǎo)磁體磁場均勻性高 C.超導(dǎo)磁體磁場穩(wěn)定性較低 D.超導(dǎo)磁體需要液氦作為制冷劑 E.超導(dǎo)磁體的運行成本較高
A.發(fā)射光譜與激發(fā)光譜 B.時間響應(yīng) C.支持層 D.天然輻射的影響 E.動態(tài)范圍
A.電流負荷大，可產(chǎn)生強大的磁場 B.強大磁場消耗大量電能 C.產(chǎn)生的磁場均勻、穩(wěn)定 D.必須為超導(dǎo)線圈提供超導(dǎo)條件 E.必須有相應(yīng)的失超開關(guān)
A.成像速度快、工作流程短 B.遙控操作 C.提高了圖像質(zhì)量，降低了曝光劑量 D.圖像后處理功能強 E.圖像動態(tài)范圍大
A.磁場強度 B.磁場的均勻性 C.磁場的穩(wěn)定度 D.磁體孔徑大小 E.磁場的切換率
A.變壓比大 B.初級低電壓大電流 C.瞬間負荷功率小 D.次級高電壓小電流 E.瞬間負荷功率大
A.鈮鈦合金 B.鐵氧體 C.鋁鎳鈷 D.鋁合金 E.稀土鈷
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