問答題

【簡答題】確定有光刻膠覆蓋硅片的三個生產區(qū)，并簡單說明光刻膠在各區(qū)的作用。

答案： 光刻區(qū)的光刻膠是一種光敏媒介，通過對它進行深紫外線曝光來印制掩膜版的圖形，實現(xiàn)圖像轉移；
刻蝕區(qū)的光刻膠用于保...
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問答題

【簡答題】光刻的主要目的是什么？光刻膠再光刻中的作用是什么？
答案： 目的：在薄膜層上刻蝕出與掩模上完全對應的幾何圖形以實現(xiàn)選擇性摻雜、腐蝕和氧化等目的。
作用：光刻區(qū)的光刻膠是一...
問答題

【簡答題】哪些基本工藝方法要用到掩膜板？并說明在這些工藝中掩膜板的主要作用。
答案：

光刻。
掩膜版的主要作用是確定了設計圖形的尺寸（即器件的尺寸和結構）和位置，以便轉移到材料上。
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