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【簡答題】列舉離子注入設備的5個主要子系統(tǒng)。
答案:
1.離子源
2.引出電極和離子分析器
3.加速管
4.掃描系統(tǒng)
5.工藝室
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問答題
【簡答題】離子注入的主要缺點是什么?如何克服?
答案:
1、高能雜質離子轟擊硅原子將對晶體結構產生損傷。(高溫退火進行修復)。
2、注入設備的復雜性。(被注入機對劑量...
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【簡答題】列舉離子注人優(yōu)于擴散的7點。
答案:
1.精確控制雜質含量。
2.很好的雜質均勻性。
3.對雜質穿透深度有很好的控制。
4.產生...
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