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問答題

【簡答題】哪種化學(xué)氣體通常用來刻蝕多晶硅，為什么這種化學(xué)氣體替代了氟基化學(xué)氣體？

答案：氯氣、溴氣、氯/溴氣
原因：因為氟基氣體的刻蝕是各向同性的并且對光刻膠的選擇比一般，為了避免擊掉下一層的氧化物...

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【簡答題】描述平板反應(yīng)器。

答案：首先在層間介質(zhì)二氧化硅中刻出通孔窗口，
然后再覆蓋有TiN阻擋層的通孔窗口中淀積W，
最后進行干法等...

【簡答題】二氧化硅，鋁，硅和光刻膠刻蝕分別使用什么化學(xué)氣體來實現(xiàn)干法刻蝕？

答案：刻蝕硅采用的化學(xué)氣體為CF₄/O₂和CL₂.刻蝕二氧化...

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