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【簡答題】列出光刻的8個(gè)步驟,并對(duì)每一步做出簡要解釋。
答案:
1氣相成底膜:第一步是清洗、脫水和硅片表面成底膜處理。
2旋轉(zhuǎn)涂膠:完成底膜后,硅片要立即采用旋轉(zhuǎn)涂膜的方法涂...
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【簡答題】解釋亮場掩膜版和暗場掩膜版。
答案:
如果一個(gè)掩膜版,其石英板上大部分被鉻覆蓋,它就指的是暗場掩膜版。亮場掩膜版有大面積的透明的石英,而只有很細(xì)的鉻圖形。
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【簡答題】描述投影掩膜版和光掩膜版的區(qū)別?
答案:
投影掩膜版它包括了要在硅片上重復(fù)生成的圖形。這種圖形可能僅包含一個(gè)管芯,也可能是幾個(gè)光掩膜版通常稱為掩膜版,包含了對(duì)于整...
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