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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】后光刻時(shí)代有那些光刻新技術(shù)？

答案：浸入式光刻、納米壓印光刻、極紫外光刻（EUV）和無(wú)掩模(ML2)一起成為后光刻技術(shù)時(shí)代的候選技術(shù)。

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【簡(jiǎn)答題】紫外光的常見(jiàn)曝光方法有那些？
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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述光刻膠的成分特征。
答案：光學(xué)光刻膠通常包含有三種成份：
①聚合物材料（也稱(chēng)為樹(shù)脂）：聚合物材料在光的輻照下不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，其主要作用是...

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