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A.研究體系為實(shí)際狀態(tài)。
B.解釋微觀本質(zhì)及其產(chǎn)生某種現(xiàn)象的內(nèi)部原因。
C.處理方法為以理想態(tài)為標(biāo)準(zhǔn)態(tài)加上校正。
D.獲取數(shù)據(jù)的方法為少量實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)加半經(jīng)驗(yàn)?zāi)Ｐ汀?br /> E.應(yīng)用領(lǐng)域是解決工廠中的能量利用和平衡問題。

A.高于T_c和高于P_c
B.臨界溫度和臨界壓力下
C.低于T_c和高于P_c
D.高于T_c和低于P_c