被檢光學表面與其參考光學表面產生的干涉條紋的不規(guī)則程度。
被檢光學表面與其參考光學表面曲率半徑有偏差時所產生的干涉圈數。
學系統(tǒng)的一部分，通過其移動，能配合系統(tǒng)物面位置改變，保持光學系統(tǒng)成像在原位置上。
