A.實(shí)用新型專利對(duì)于實(shí)用性的要求與發(fā)明專利一致 B.實(shí)用新型專利對(duì)于新穎性不作要求 C.實(shí)用新型專利申請(qǐng)的初步審查對(duì)于新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性的要求均與發(fā)明專利相同 D.實(shí)用新型專利對(duì)于創(chuàng)造性不作要求
A.不得超出原權(quán)利要求書(shū)的記載范圍 B.不得超出原說(shuō)明書(shū)和附圖的記載范圍 C.不得超出原說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求書(shū)的范圍 D.不得超出權(quán)利要求書(shū)和說(shuō)明書(shū)附圖的范圍
A.申請(qǐng)人可以刪除某個(gè)或者某些必要技術(shù)特征,因?yàn)檫@樣不會(huì)擴(kuò)大原申請(qǐng)的范圍 B.說(shuō)明書(shū)中可以補(bǔ)入原權(quán)利要求書(shū)中記載而原說(shuō)明書(shū)中沒(méi)有描述過(guò)的技術(shù)特征,但是不能擴(kuò)大其內(nèi)容 C.附圖中的結(jié)構(gòu)雖然是明顯可見(jiàn)并有唯一解釋,但是由于未在原說(shuō)明書(shū)以及權(quán)利要求書(shū)中提及,因此不允許補(bǔ)入說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求書(shū)中 D.為了更詳細(xì)地理解說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求書(shū)所記載的技術(shù)方案,允許增加一幅附圖